全拋釉是釉下彩，全拋釉瓷磚屬于釉面磚。其坯體工藝類似于一般的釉面地磚，主要不同是它在施完底釉后就印花，再施一層透明的面釉，燒制后(半成品)把整個面釉拋去一部份，保留一部份面……

　　去年以來，由于國內全拋釉的工藝成熟，攻克了耐磨與透明以及氣泡等技術難關，直接推動了下游瓷磚企業(yè)的技術進步，使質優(yōu)款靚的拋釉磚成為瓷磚技術革命的后起之秀，不少知名仿古磚品牌企業(yè)都推出拋釉磚系列產品搶占市場份額，震撼了長期以來拋光磚當主角的“老大”地位。

　　全拋釉是釉下彩，全拋釉瓷磚屬于釉面磚。其坯體工藝類似于一般的釉面地磚，主要不同是它在施完底釉后就印花，再施一層透明的面釉，燒制后(半成品)把整個面釉拋去一部份，保留一部份面釉層、印花層、底釉，全拋磚的主要目標是代替拋光磚(當?shù)卮u使用)。與拋光釉磚相比，它的主要優(yōu)點是，坯體不用優(yōu)質原料(與二次布料的拋光磚不一樣)，表層只要有0.5-1mm左右的釉層(底釉+面釉)就可以了。而多次布料的拋光磚也要2-3mm的精料;拋釉磚圖案仿真度很容易做好(因為是直接采用印花產生圖案)，成本也低。

　　由于釉層燒制速度較快，能耗較低，拋釉比拋光(坯)的能耗低而產量也較高。主要缺點是：過去拋釉磚的工藝設備不是很成熟，在國內大批生產的還較少。這種產品在國際上已出現(xiàn)了多年，特別在西班牙、意大利等，但還沒有大量應用，主要是由于技術障礙及之前沒有太大的對比優(yōu)勢(與拋光磚比)。特別在國內，生產拋光磚的好材料(泥、沙)還不錯，能源成本也不算高。但現(xiàn)在這種情況己發(fā)生了變化。其主要技術難點是：釉面太厚(1mm以上)則容易在燒制時產生大量氣泡，使產品拋后防污能力差，失光。而釉層太簿，則釉面磚總有變形，拋光時易產生漏拋或局部露底現(xiàn)象。因此，大批量生產時，產品品質難保證，優(yōu)等品難以穩(wěn)定。

　　要解決這個問題，釉面工藝與拋釉設備都要有所突破。即要表層釉在燒制時不易產生氣泡，燒制溫度范圍寬(可適應不同的窯爐和坯體配方)，膨脹系數(shù)與坯體接近，使之不易在燒制時或拋后產生變形。而拋釉設備方面：一是要對坯體的變形有一定的適應能力，以減少局部漏拋或露底的現(xiàn)象，同時也要有一定的切削能力，以修復因施釉不平導致釉面出現(xiàn)波浪而影響外觀。二是要適合拋磨量少(與拋光磚相比)，產量大，能耗低的要求。

　　對于以上全拋產品的技術瓶頸，從前幾年開始，國內的眾多企業(yè)一直有投入研發(fā)力量(包括陶瓷生產企業(yè)、釉料制造企業(yè)、機械制造企業(yè))去攻關。目前，己獲得了重大的進步，突破了最關鍵的技術。首先，已有瑭虹、道氏、康立泰、色思諾、遠泰多家釉料公司推出了全拋釉磚專用的釉料，有的已批量生產。它具有高硬度(在5.5以上)，透明度高，高亮度(70°以上)，燒成溫度適應性廣、氣泡少、產品變形少的特點。經多個廠家試用，證明可適用于大生產。在機械設計方面，經過了對意大利產品的消化吸收(如，SMAC的STAR2000)以及近幾年半拋、軟拋釉的生產經驗。

　　目前，國內新景泰、美嘉、希望等多家陶機公司的精拋機的結構己比較適合于做全拋釉的工藝，機械穩(wěn)定性也比較好。一般釉層厚度在lmm左右(600mm×600mm規(guī)格施釉量在300克以上)就可以拋出光滑的表面。還可以適應一定的磚坯變形(在lmm左右)。

　　在釉料工藝方面，現(xiàn)在主要流程是：底釉十印花十面釉(透明十燒成)。為達到盡量好的平整度，節(jié)省釉料，達到更光滑的拋磨效果，最好使用直線淋釉作為施釉設備。

　　業(yè)內資深人士認為，全拋釉帶旺拋釉磚市場意義重大，對引領低碳環(huán)保的產業(yè)發(fā)展潮流，實現(xiàn)能源資源利用最大化效益顯著。